[14p-2H-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[14p-2H-5] 急速熱処理還元法で作製した熱酸化Si基板上のFe₃O₄薄膜の電気および磁気伝導特性

〇藤田 晃久¹、小堀 裕己¹、山崎 篤志¹、谷口 年史²、清水 哲夫³ (1.甲南大理工、2.阪大院理、3.産総研ナノテク)

キーワード：マグネタイト、磁気抵抗、急速熱処理還元法

酸素反応性スパッタリング法を用いて、Feターゲットから熱酸化Si基板上にヘマタイト薄膜を作製した。作製したヘマタイトを、赤外光ファネスを用いて、Ar(90%)/H₂(10%)ガス雰囲気中で急速熱処理還元し、マグネタイト薄膜を作製した。また、XRD測定により試料の同定と最適熱処理時間の決定をした。さらに、表面形状を調べるために、AFM測定を行った。He冷凍機を用いて、5K～300Kの温度範囲で抵抗率および磁気抵抗の温度依存性を調べた。