2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[15a-1A-1~11] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2015年9月15日(火) 09:00 〜 12:00 1A (131+132)

座長:原田 俊太(名大)

11:15 〜 11:30

[15a-1A-9] Si蒸気圧エッチング法による4H-SiC表面の加工変質層除去とその効果

〇鳥見 聡1、矢吹 紀人1、篠原 正人1、寺元 陽次1、野上 暁1、金子 忠昭2 (1.東洋炭素株式会社、2.関学大理工)

キーワード:SiC、Si蒸気圧エッチング、加工変質層

本報告ではSi蒸気圧エッチング法による熱化学的エッチングを用いて機械加工が及ぼすSiCウェハ表面の加工変質層除去とその効果の検証を目的とした。Si蒸気圧エッチング後表面へエピタキシャル成膜し更に活性化アニールを想定した高温処理を行い、その表面形状変化ならびに結晶欠陥評価を通して加工変質層除去効果を確認した。