[15a-4E-1~7] 7.1 X-ray technologies

[15a-4E-3] Current state of development of X-ray optics system using Silicon dry etching

〇Kasumi Nakamura¹, Yuichiro Ezoe¹, Kumi Ishikawa², Tomohiro Ogawa¹, Mayu Sato¹, Masaki Numazawa¹, Kazuma Takeuchi¹, Masaru Terada¹, Takaya Ohashi¹, Kazuhisa Mitsuda⁴, Yuichi Kurashima³, Hideki Takagi³ (1.TMU, 2.RIKEN, 3.AIST, 4.isas)

Keywords:Silicon dry etching

シリコンドライエッチングを用いた超軽量宇宙X線光学系の現状について報告する。
我々は Bosch process をベースとした、独自の微細穴X線光学系を開発してきた。これまでに Wolter I型光学系試作品で、世界初のX線結像を実証している。しかし、角度分解能には課題がある。我々はその主要原因である、微細穴の側壁の形状精度と垂直性に着目し、条件出しを行っており、その現状について報告する。