2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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[15p-PB2-1~53] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

2015年9月15日(火) 18:30 〜 20:30 PB2 (白鳥ホール)

18:30 〜 20:30

[15p-PB2-42] 大気圧プラズマを用いた窒素含有高分子薄膜の形成

〇松林 俊樹1 (1.芝浦工大)

キーワード:大気圧プラズマ、薄膜

大気圧プラズマ重合によって、親水性の窒素含有高分子薄膜形成を行い、使用するモノマーの選定、プラズマ条件の最適化及び薄膜評価について報告する。評価方法はMALDI、XPS、イメージングエリプソメトリの3点である。結果は高分子親水性薄膜の生成は達成できた。また、従来のプラズマジェットに比べ、有効処理面積が直径55mmと非常に広範囲であった。