2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[16a-1B-1~12] 21.1 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

2015年9月16日(水) 09:00 〜 12:15 1B (133+134)

座長:川原村 敏幸(高知工科大)

10:15 〜 10:30

[16a-1B-6] 低温での水素イオンビーム照射による酸化亜鉛薄膜の物性制御

〇中山 亮1、前里 光彦1、長岡 孝2、有田 誠2、北川 宏1,3 (1.京大院理、2.九大院工、3.JST-CREST)

キーワード:酸化亜鉛、水素、イオンビーム

水素は電子系と相互作用しやすく、水素の導入は物性を劇的に変える可能性を秘めている。しかし、従来の水素導入法では、多様な物質に水素を導入することができない。そこで、我々はあらゆる物質に水素を導入する手法として水素イオンビーム照射に着目した。本研究では我々が開発した水素イオンビーム照射装置を用いて、低温での酸化亜鉛への照射と温度可変でのin-situ電気伝導度測定を行い、照射による影響を詳細に調べた。