[16a-4E-9~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[16a-4E-10] NEB-22を用いた電子ビームリソグラフィーによる50nmラインアンドスペースパターンの作製

〇岡田 真¹、松井 真二¹ (1.兵県大高度研)

キーワード：電子ビームリソグラフィー、ネガ型レジスト

化学増幅型電子ビームレジストであるNEB-22を用いて、電子ビームリソグラフィーにより50nmラインアンドスペースパターンの作製を行った。実験の結果、ライン幅40nm、スペース幅70nm、高さ95nmのL&Sパターンの作製に成功した。