[16p-2Q-1~13] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

△ [16p-2Q-3] 正負パルスバイアスシステムを持つ反応性HiPIMSによるTi含有およびSi含有DLCの成膜

〇鎌田 光速¹、木村 高志¹、中尾 節男²、園田 勉²、楠森 毅²、尾崎 公洋²、東 欣吾³ (1.名古屋工大、2.産総研、3.兵庫県立大)

キーワード：プラズマ