[11p-A26-1~16] 7.1 X線技術

[11p-A26-10] EUV リソグラフィ光源プラズマの光学厚さの最適化

〇細田 達矢¹、松隈 啓¹、吉田 健祐¹、藤岡 慎介¹、余語 覚文¹、西村 博明¹ (1.阪大レーザー研)

キーワード：EUV