2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[12p-P10-1~8] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2015年3月12日(木) 16:00 〜 18:00 P10 (総合体育館)

16:00 〜 18:00

[12p-P10-2] ターゲット有効利用のための様々な形状の磁化プラズマ生成と評価

〇大津 康徳1、鶴田 昇平1、井手 翼1、田原 竜夫2、秋山 守人2 (1.佐大院工, 2.産総研九州センター)

キーワード:スパッタ源、ターゲット有効利用、透明導電膜、銅薄膜