14:15 〜 14:30 [16p-B10-3] ミニマルCVD装置におけるシリコンエピタキシャル成長の輸送現象 〇松尾 美弥1、羽深 等1、山田 彩未1、李 寧1、三ケ原 孝則2、池田 伸一2,3、石田 夕起2,3、原 史朗2,3 (1.横国大院工、2.ミニマル、3.産総研)