13:45 〜 14:00 [16p-C302-1] [講演奨励賞受賞記念講演] 酸化性および還元性雰囲気におけるゲート酸化膜成長前の高温熱処理がSiC MOSFET移動度に与える影響 〇平井 悠久1、喜多 浩之1 (1.東大院工)