[13a-B9-1~11] 8.4 プラズマエッチング

[13a-B9-1] HFC-1234yfの電子物性と解離

〇林 俊雄¹、関根 誠¹、石川 健治¹、堀 勝¹ (1.名古屋大工)

キーワード：半導体、酸化膜エッチングガス、計算化学

温暖化係数の低いHFC-1234yf(CF₃CF=CH₂)、HFC-1234ze(CF₃CH=CHF)が、従来用いられてきたR410A(CH₂F₂+C₂HF₅)に代わる、冷却媒体ガスとして用いられるようになってきた。これらのガスは多量に製造されるため酸化膜エッチングガスとして用いることができるならばランニングコストを低く抑えることができる可能性を持っている。そのため、これらのガスが酸化膜用エッチングガスとして適しているかどうかを、計算化学を用いて、その電子物性と解離について調べた。ここでは、HFC-1234yfについて報告し、HFC-1234zeについては別の機会に報告する。