The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

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Oral presentation

7 Beam Technology and Nanofabrication » 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[13a-D61-1~12] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

Tue. Sep 13, 2016 9:00 AM - 12:15 PM D61 (Bandaijima Bldg.)

Toshiyuki Horiuchi(Tokyo Denki Univ.), Yoshihiko Hirai(Osaka Pref. Univ.), Jun Taniguchi(Tokyo Univ. of Sci.), Hiroaki Oizumi(GIGAPHOTON)

10:45 AM - 11:00 AM

[13a-D61-7] Self-assembled 2D nanogap arrays by magnetic assembly

Shoya Takidani1, Kanna Aoki1, Minoru Fujii1 (1.Kobe Univ.)

Keywords:microfabrication technology, magnetic assembly, gap structure

本研究では、汎用的な微細加工技術であるフォトリソグラフィと自己組織化法の一つである磁場アセンブリ法を組み合わせた新しいナノ微細加工技術を提案する。この方法の利点は、フォトリソグラフィ法で形成したマイクロスケールパターンを、一括してより複雑なナノパターンに修飾できる点である。