[14a-A26-1~10] 6.2 カーボン系薄膜

[14a-A26-10] 希釈ガスとしてH₂を用いたプラズマCVD法によるDLC膜特性へのSiおよびN添加効果

〇中村 和樹¹、大橋 遼¹、横山 大²、田島 圭一郎²、遠藤 則史²、末光 眞希²、遠田 義晴¹、中澤 日出樹¹ (1.弘前大院理工、2.東北大通研)

キーワード：ダイヤモンドライクカーボン、プラズマ化学気相成長法