[14a-A37-1~10] 6.4 薄膜新材料

[14a-A37-6] 水蒸気を反応ガスに用いた低温スパッタ法による酸化ニッケル薄膜の作製

〇阿部 良夫¹、山内 駿¹、川村 みどり¹、金 敬鎬¹、木場 隆之¹、奈良井 哲² (1.北見工大、2.神戸製鋼所)

キーワード：スパッタリング、エレクトロクロミック、酸化ニッケル薄膜

液体窒素で冷却した基板上に、水蒸気を反応ガスに用いたスパッタ法を用いて酸化ニッケル薄膜を作製し、そのエレクトロクロミック特性を評価した。
XRD測定の結果より、作製した試料は酸化物と金属の混合膜と考えられる。また、波長600 nmの透過率が12%から20%の間で変化するエレクトロクロミック特性を確認した。