The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[14p-A31-1~16] 6.3 Oxide electronics

Wed. Sep 14, 2016 1:30 PM - 5:45 PM A31 (302A)

Kouhei Yoshimatsu(Titech), Yuji Muraoka(Okayama Univ.)

2:45 PM - 3:00 PM

[14p-A31-6] TiO2/WO3 multi-layer Films Deposited by reactive Sputtering for Visible Light-active Photocatalyst

Kenta Taniyama1, Nanami Miyazawa1, Junjun Jia1, Masaaki Imura2, Toshimasa Kanai2, Yuzo Shigesato1 (1.Aoyama-Gakuin Univ., 2.Nippon Electric Glass)

Keywords:photocatalyst, reactive sputtering, platinum nano-particle

現在、可視光応答型光触媒に関する研究においてWO3が注目されているが、光触媒活性および耐候性がTiO2と比較すると低い。そのため、WO3光触媒はさらに高い可視光応答性と、耐候性が求められている。そこで本研究ではさらなる光触媒活性および耐候性の向上を目指してTiO2/WO3積層膜を作製し、またその積層膜に助触媒として白金を担持し、可視光照射時における光誘起超親水性ならびにアセトアルデヒド分解活性について解析した。