2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[14p-A31-1~16] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2016年9月14日(水) 13:30 〜 17:45 A31 (302A)

吉松 公平(東工大)、村岡 祐治(岡山大)

15:00 〜 15:15

[14p-A31-7] ルチル型 TiO2単結晶の酸素空孔分布制御による可逆的抵抗変化特性

〇(M1)清水 拓磨1、竹内 正太郎1、酒井 朗1 (1.阪大院基礎工)

キーワード:酸化チタン、抵抗変化、メモリスタ

抵抗変化(RS)現象を示すTiO2は、メモリスタ素子材料として期待されている。メモリスタ素子の高機能化に向けて、ドーパント(酸素空孔)の電界による精密制御が必要である。我々は、熱還元処理したルチル型TiO2単結晶基板上に酸素空孔分布を制御する端子を持つ4端子平面型素子を作製し、電気着色現象によって視覚的に捉えられる酸素空孔分布と電極間で生じた可逆的なRS特性との関連性、および結晶方位依存性の評価を行った。