2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 機能性原子薄膜材料の新展開-成膜技術-

[14p-A33-1~15] 機能性原子薄膜材料の新展開-成膜技術-

2016年9月14日(水) 13:15 〜 18:15 A33 (301A)

安藤 淳(産総研)、吹留 博一(東北大)

13:30 〜 14:00

[14p-A33-2] 二次元原子薄膜のCVD成長とそのフロンティア

吾郷 浩樹1,2 (1.九大産学連携センター、2.JSTさきがけ)

キーワード:グラフェン、二次元原子膜、遷移金属カルコゲナイド

近年、グラフェンをはじめとして、遷移金属カルコゲナイド(TMC)や六方晶窒化ホウ素(h-BN)、黒リン、シリセン、ゲルマネンなど様々な二次元原子薄膜材料が大きな関心を集め、エレクトロニクスをはじめとした多様な応用の可能性が報告されている。本講演では、我々が行ってきたグラフェンのCVD成長とTMCのCVD成長、そして、それらの高品質化やヘテロ構造の実現について解説する。