2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[14p-A37-1~17] 6.4 薄膜新材料

2016年9月14日(水) 13:15 〜 17:45 A37 (306-307)

鈴木 基史(京大)、岩田 展幸(日大)

13:45 〜 14:00

[14p-A37-3] 熱ナノインプリントプロセスを用いた金ナノ粒子埋め込み型原子レベル超平坦ポリマー基板の作製

後藤 里紗1、嶋田 航大1、小山 浩司2、金子 智3,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大、2.(株)並木精密宝石、3.神奈川県産技セ)

キーワード:熱ナノインプリント、ポリイミド、金ナノ粒子

耐熱性の高いポリイミドフィルムはフレキシブル回路基板として注目されている。また、金ナノ粒子は半導体ナノワイヤの成長触媒として用いられている。本研究では、ポリマー材料における新規な表面機能の発現とナノ材料成長基板の創製を目的として、超平坦ポリマー表面への金属ナノ粒子の極薄ナノコンタクトプリント転写と原子スケールナノインプリントを行い、形態制御や光学特性などの変化について検討した。