[14p-P16-1~8] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

△ [14p-P16-2] Self-Assembled Network (SAN) Structure Formed in Photoresist Film by Spin Coating Method

〇(M1)Tomohiro Maruyama¹, Hiroki Nakano¹, Akira Kawai¹ (1.Nagaoka Univ. Tech.)

Keywords:self-assembled network structure, spin coating, photoresist

一般的に膜厚10nm以下のキャスト法で形成した超薄膜には，自己組織化ネットワークパターン（SAN）構造と呼ばれる不連続な網目状パターンが現れる．本研究では，フォトレジスト膜および低凝集力のフッ素系高分子のSAN構造に注目した．SAN構造は，スピンコート法によって形成されることを示した．また，レジスト膜の極表面層に硬化層が形成されるため，SAN構造はスピン乾燥時の硬化層形成が支配的であると考察した．