[14p-P16-1~8] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

△ [14p-P16-2] スピンコート法によるレジスト膜の自己組織化ネットワーク(SAN)構造の形成

〇(M1)丸山 智大¹、中野 弘基¹、河合 晃¹ (1.長岡技科大)

キーワード：自己組織化ネットワーク構造、スピンコート、フォトレジスト

一般的に膜厚10nm以下のキャスト法で形成した超薄膜には，自己組織化ネットワークパターン（SAN）構造と呼ばれる不連続な網目状パターンが現れる．本研究では，フォトレジスト膜および低凝集力のフッ素系高分子のSAN構造に注目した．SAN構造は，スピンコート法によって形成されることを示した．また，レジスト膜の極表面層に硬化層が形成されるため，SAN構造はスピン乾燥時の硬化層形成が支配的であると考察した．