[14p-P16-1~8] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[14p-P16-3] リソグラフィ用レジスト材料の誘電分散特性

〇白瀧 穂高¹、河合 晃¹、大谷 翔吾¹、笹崎 大生¹ (1.長岡技科大)

キーワード：誘電特性、SU-8、DFR

MEMSおよびμ-TASには、しばしばレジスト膜を永久材料として用いる。デバイス動作上では、レジスト膜の誘電特性が重要となる。そこで、本研究では、SU-8およびDFRレジスト材料の誘電率と緩和時間をキャパシタ法により測定し、誘電緩和現象および緩和時間を見積もった。