2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[15a-B1-1~13] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2016年9月15日(木) 09:00 〜 12:30 B1 (展示ホール内)

塩島 謙次(福井大)

11:45 〜 12:00

[15a-B1-11] 自立GaN基板上p-n接合ダイオードにおける順方向電流集中領域の検討Ⅱ

林 賢太郎1、太田 博1、堀切 文正2、成田 好伸2、吉田 丈洋2、中村 徹1、三島 友義1 (1.法政大、2.サイオクス)

キーワード:窒化ガリウム、p-n接合ダイオード、表面モフォロジー

自立GaN基板上GaN p-nダイオードの順方向バイアスにおける電流のアノード電極径依存から電極端に電流が集中するモデルを前回提唱した。今回は裏面のカソード電極にITO透明電極を用いてp-n接合での発光を顕微ELマッピングにより観察して、その発光強度分布からこのモデルの妥当性を確認した。また、エピ表面に顕著な波模様のモフォロジーがある場合はそれに対応したEL分布が観測された。