2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[15a-B10-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年9月15日(木) 09:00 〜 12:15 B10 (展示控室1)

葉 文昌(島根大)、岡田 竜弥(琉球大)

11:00 〜 11:15

[15a-B10-9] ラマン分光法を用いた多結晶シリコン薄膜成膜プロセス依存の評価

鈴木 貴博1、横川 凌1、高橋 和也2、小森 克彦2、森本 保3、澤本 直美1、小椋 厚志1 (1.明治大理工、2.東京エレクトロン東北(株)、3.東京エレクトロン(株))

キーワード:多結晶シリコン薄膜、ラマン分光法