The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and control

[15a-B7-1~14] 8.1 Plasma production and control

Thu. Sep 15, 2016 9:00 AM - 12:30 PM B7 (Exhibition Hall)

Tatsuya Misawa(Saga Univ.), Tatsuo Ishijima(Kanazawa Univ.)

9:00 AM - 9:15 AM

[15a-B7-1] Microwave-Excited Pure N2 Line Plasma Production under Atmospheric Pressure Using a Modified Waveguide Structure

Haruka Suzuki1, Yuto Tamura1, Hitoshi Itoh1,2, Makoto Sekine1, Masaru Hori1, Hirotaka Toyoda1 (1.Nagoya Univ., 2.Tokyo Electron Ltd.)

Keywords:atmospheric pressure plasma, microwave, molecular gas plasma

近年、大気圧プラズマを大面積表面処理技術へ応用する研究に注目が集まっている。我々はこれまでに、長尺かつ高密度の大気圧プラズマ生成を目指し、進行波のみによる電磁界を導波管内に形成する技術を開発し、ヘリウム放電による線均一ラインプラズマを生成することに成功した。本研究では、分子ガス環境において長尺ラインプラズマ生成を易化することを目的とし、導波管構造の改良により純窒素ラインプラズマ生成を試みた。