[15a-P8-1~12] 3.15 シリコンフォトニクス

[15a-P8-1] 残留歪とマイクロ構造を用いたSOI上Ge成長膜の２軸伸張歪の温度特性

〇石田 悟己¹、加古 敏^1,2、小田 克矢³、岩本 敏^1,2、荒川 泰彦^1,2 (1.東大生産研・先端研、2.東大ナノ量子機構、3.日立研開)

キーワード：ゲルマニウム、歪、増強