[15a-P8-1~12] 3.15 シリコンフォトニクス

△ [15a-P8-2] SbドープアモルファスGeの局所溶融横方向液相エピタキシャル成長によるn型Ge細線の作製と評価

〇冨田 崇史¹、岡 博史¹、小山 真広¹、田中 章吾¹、細井 卓治¹、志村 考功¹、渡部 平司¹ (1.阪大院工)

キーワード：ゲルマニウム、n型ドーピング、フォトルミネッセンス