2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[15p-B9-1~17] 13.3 絶縁膜技術

2016年9月15日(木) 13:15 〜 17:45 B9 (展示ホール内)

手塚 勉(東芝)、知京 豊裕(物材機構)

17:30 〜 17:45

[15p-B9-17] HfO₂/GeO₂/Geスタック構造におけるGeO脱離の調査

大竹 博義1、上野 智雄1、岩崎 好孝1 (1.農工大院工)

キーワード:Ge、GeO₂、HfO₂

HfO₂/GeO₂/Ge構造において、熱処理によるGeO脱離の調査を行う。