[16a-B10-1~13] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /MEMS/Integration technology

[16a-B10-11] Cleanroom-Free Environment Control System for Minimal PLAD

〇Takashi Yajima^1,2, Masaharu Yasui^1,2, Sommawan Khumpuang^1,2, Hitoshi Maekawa^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.Minimal Fab)

Keywords:minimal fab

我々は、ミニマルファブの局所クリーン化搬送システムにおける前室システムの研究開発を行っている。Siデバイスの性能のゆらぎを抑えるためには、酸素を遮断した環境にウエハを置くことが重要である。そのために、前室内部に窒素を循環させるとともに、内部圧力をコントロールする、窒素循環パージシステムを構築することを目指すが、前段階として行った、クリーンエアを用いた実験で、前室内部を高精度に圧力制御することが出来た。