2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[16a-B10-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年9月16日(金) 09:00 〜 12:15 B10 (展示控室1)

角嶋 邦之(東工大)

11:30 〜 11:45

[16a-B10-11] 局所クリーン化ミニマルPLAD環境コントロールシステム

谷島 孝1,2、安井 政治1,2、クンプアン ソマワン1,2、前川 仁1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ)

キーワード:ミニマルファブ

我々は、ミニマルファブの局所クリーン化搬送システムにおける前室システムの研究開発を行っている。Siデバイスの性能のゆらぎを抑えるためには、酸素を遮断した環境にウエハを置くことが重要である。そのために、前室内部に窒素を循環させるとともに、内部圧力をコントロールする、窒素循環パージシステムを構築することを目指すが、前段階として行った、クリーンエアを用いた実験で、前室内部を高精度に圧力制御することが出来た。