[16a-B10-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[16a-B10-3] SiにドープされたAsの光電子ホログラフィーによる評価

〇名取 鼓太郎¹、筒井 一生¹、松下 智裕²、室 隆桂之²、木下 豊彦²、星井 拓也¹、角嶋 邦之¹、若林 整¹、松井 文彦³、下村 勝⁴ (1.東工大、2.高輝度セ、3.奈良先端大、4.静岡大)

キーワード：光電子ホログラフィー