17:30 〜 17:45
李 恩慈1、〇野田 周一1、水林 亘2、遠藤 和彦2、寒川 誠二1,2 (1.東北大流体研、2.産総研ナノエレ)
野田 周一
発表者・著者、共著者
2016年3月19日(土) 13:45 〜 18:15 S423 (南4号館)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 13 半導体
- | 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術
2016年3月19日(土) 13:45 〜 18:15 S423 (南4号館)
17:30 〜 17:45
李 恩慈1、〇野田 周一1、水林 亘2、遠藤 和彦2、寒川 誠二1,2 (1.東北大流体研、2.産総研ナノエレ)