16:45 〜 17:00 [19p-S423-12] 気相合成したW内包Siクラスターを単位構造とするWシリサイド薄膜の膜質評価 〇岡田 直也1,2、内田 紀行2、金山 敏彦2 (1.JSTさきがけ、2.産総研)