16:00 〜 18:00 [20p-P13-9] スパッタリング法で作製したβ-FeSi2多結晶薄膜内の不純物濃度分析 〇服部 哲1、東 貴彦1、池田 修哉2、扇 和也2、寺井 慶和1,2 (1.鹿児島大理工、2.九工大情報工)