山口徹

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発表者・著者、共著者

2016年3月19日(土) 13:30 〜 18:00 S224 (南2号館)

一般セッション(口頭講演)
| 7 ビーム応用
| 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[19p-S224-1~17] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

13:45 〜 14:00

[19p-S224-2] 熱アニール法によるポリスチレンとポリジメチルシロキサンからなるブロック共重合体のランダム配向面内シリンダ構造の配向秩序解析

〇山口徹¹、藤原聡¹ (1.NTT物性基礎研)