14:45 〜 15:00
〇大河 弘志1、染川 智弘2、藤田 雅之2,3、松谷 貴臣1、前田 佳伸1、宮永 憲明3 (1.近大理工、2.レーザー総研、3.阪大レーザー研)
大河 弘志
発表者・著者、共著者
2016年3月19日(土) 13:30 〜 17:30 W321 (西2・3号館)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 3 光・フォトニクス
- | 3.7 レーザープロセシング
2016年3月19日(土) 13:30 〜 17:30 W321 (西2・3号館)
14:45 〜 15:00
〇大河 弘志1、染川 智弘2、藤田 雅之2,3、松谷 貴臣1、前田 佳伸1、宮永 憲明3 (1.近大理工、2.レーザー総研、3.阪大レーザー研)