15:15 〜 15:30 △ [20p-H113-5] 炭素クラスターイオン注入Siエピウェーハの特徴(5)-マイクロ波加熱処理がクラスター注入レンジに与える効果- 〇門野 武1、奥山 亮輔1、柾田 亜由美1、廣瀬 諒1、古賀 祥泰1、奥田 秀彦1、栗田 一成1 (1.株式会社SUMCO)