16:30 〜 16:45 [20p-S423-11] レーザーアニール技術の高性能パワー素子プロセスへの応用 〇陳 訳1、岡田 竜弥1、野口 隆1、マッツァムト フルビオ2、ヒュエット カリム2 (1.琉球大工、2.スクリーンセミコンダクタ(株))