一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
09:00 〜 09:15
〇松本 葵1、栗田 一佳1、玉木 隆幸1、八幡 恵輔2、大村 悦二3 (1.奈良高専、2.三星ダイヤモンド、3.大阪大学)
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09:15 〜 09:30
〇山縣 秀人1 (1.近大理工)
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09:30 〜 09:45
〇大町 弘毅1、中村 貴宏1、佐藤 俊一1 (1.東北大多元研)
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09:45 〜 10:00
〇(P)Tan Dezhi1、Matsuda Kazunari1、Qiu Jianrong2 (1.Kyoto Univ.、2.Zhejiang Univ.)
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10:00 〜 10:15
〇(M1)出口 亮1、田中 のぞみ1、和田 直1、砂原 淳2、余語 覚文1、西村 博明1 (1.阪大レーザー研、2.レーザー総研)
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10:30 〜 10:45
〇内田 啓貴1、塩尻 大士1、福田 大二1、土嶺 信男2、小山 浩司3、金子 智4、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東京工業大学、2.(株)豊島製作所、3.(株)並木精密宝石、4.神奈川県産技セ)
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10:45 〜 11:00
〇(M2)服部 正和1、池上 浩1、中村 大輔1、岡田 龍雄1 (1.九州大学)
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11:00 〜 11:15
〇山崎 正瑛1、下垣 哲也1、小田 晃司1、Iyamperumal Palani2、中村 大輔1、東畠 三洋1、中田 芳樹3、池上 浩1、Nilesh Vasa4、岡田 龍雄1 (1.九大シス情、2.インド工科大学インドール校、3.阪大レーザー研、4.インド工科大学マドラス校)
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11:15 〜 11:30
〇榊 祥太1、越崎 直人1、池上 浩2、石川 善恵3、辻 剛志4 (1.北大院工、2.九大院工、3.産総研、4.島根大院工)
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11:30 〜 11:45
〇佐藤 至弘1、近藤 崇博1、セルゲイ クリニッチ1、岩森 暁1 (1.東海大)
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