[19a-P1-1~17] 7 ビーム応用（ポスター）

[19a-P1-2] SEM観察における有機高分子レジスト収縮の理論解析

〇香山 真範¹、古川 雄基¹、川田 博昭¹、平井 義彦¹、安田 雅昭¹ (1.大阪府大工)

キーワード：レジストパターン収縮、走査電子顕微鏡、電子照射損傷

電子線照射下の有機高分子レジストの収縮現象を分子動力学法と電子散乱のモンテカルロ法を用いて理論解析した。レジストパターン全体を小さなセルに分割し、電子散乱のモンテカルロ法を用いて電子照射により各セルに吸収されるエネルギーを求め、各セルをエネルギー吸収量に応じて分子動力学法で求めた収縮率に従って収縮させることにより全体のサイズ変化を計算した。