[19p-P6-1~8] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[19p-P6-2] 円筒型ターゲットを用いた高周波磁化プラズマスパッタによるAZO薄膜の低温合成

〇大津 康徳¹、住山 貴史¹、山口 真依¹、田原 竜夫²、本村 大成² (1.佐大院工、2.産総研)

キーワード：透明導電膜、対向ターゲットスパッタ

本研究では、直径の異なる2つのAZO 円筒ターゲットを対向に配置し、その外側に磁石を配置することにより、円筒ターゲット間に高密度プラズマを発生させ、処理速度の改善を図り、低温でAZO薄膜を高品質に合成できるスパッタ装置を開発した。合成されたAZO薄膜の体積抵抗率は、10^-3Ωcmオーダーの抵抗率を示している。従来の平板型マグネトロンスパッタに比べて、基板加熱なしで均一性の良い抵抗率分布を実現できた。