2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[19p-S224-1~17] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2016年3月19日(土) 13:30 〜 18:00 S224 (南2号館)

岡田 真(兵庫県立大)、横尾 篤(NTT)

16:00 〜 16:15

[19p-S224-10] 熱ナノインプリントにおける樹脂中での応力緩和の検討

〇(B)飯田 達矢1、安田 雅昭1、川田 博昭1、平井 義彦1 (1.大府大工)

キーワード:ナノインプリント、応力緩和、配向