2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[19p-S224-1~17] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2016年3月19日(土) 13:30 〜 18:00 S224 (南2号館)

岡田 真(兵庫県立大)、横尾 篤(NTT)

17:30 〜 17:45

[19p-S224-16] 光ナノインプリントリソグラフィを目指したレーザー加工による光硬化性液体塗布用孔版の作製

関 健斗1、永瀬 和郎2、廣芝 伸哉1、中川 勝1、中村 貴宏1 (1.東北大多元研、2.(株)ミノグループ)

キーワード:レーザー孔空け加工、光ナノインプリントリソグラフィ、スクリーン印刷

当研究グループでは、独自に開発した高粘度光硬化性液体を、スクリーン印刷法によりモールドのパターン粗密に応じて基板上に位置選択的に塗布することで、バブル欠陥フリー光ナノインプリントによる微細構造作製の際の残膜厚均一化に効果があることを見出している。本研究では、機械的ならびに化学的特性に優れるポリイミドフィルムを対象としたピコ秒パルスレーザー加工により、光硬化性液体の吐出量制御に向けたスクリーン印刷用孔版の作製を試みたので報告する。