2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[19p-S224-1~17] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2016年3月19日(土) 13:30 〜 18:00 S224 (南2号館)

岡田 真(兵庫県立大)、横尾 篤(NTT)

13:45 〜 14:00

[19p-S224-2] 熱アニール法によるポリスチレンとポリジメチルシロキサンからなるブロック共重合体のランダム配向面内シリンダ構造の配向秩序解析

山口 徹1、藤原 聡1 (1.NTT物性基礎研)

キーワード:リソグラフィ、ブロック共重合体、自己組織化