[19p-S423-1~17] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[19p-S423-15] 塩素中性粒子ビームを用いたGe Finトランジスタ・チャネル加工

李 恩慈¹、〇野田 周一¹、水林 亘²、遠藤 和彦²、寒川 誠二^1,2 (1.東北大流体研、2.産総研ナノエレ)

キーワード：Ge Fin トランジスタ、中性粒子ビームエッチング