The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.4 Plasma etching

[19p-W621-1~12] 8.4 Plasma etching

Sat. Mar 19, 2016 2:30 PM - 5:45 PM W621 (W6)

Hisataka Hayashi(TOSHIBA), Koji Eriguchi(Kyoto Univ.)

4:45 PM - 5:00 PM

[19p-W621-9] Analysis of Surface Microfabrication for Metal-Containing Glass

〇(M1)Naoki Yoshitake1, Kenji Ishikawa1, Makoto Sekine1, Keigo Takeda1, Hiroki Kondo1, Masaru Hori1 (1.Nagoya Univ.)

Keywords:etching,glass

ガラス製のµTAS(Total Analytical System)には多くの利点があり、反応性イオンエッチングによる微細加工が要求されている。しかし、ガラス硝材の種類に依存して加工形状が異なり、ナノメータースケールの制御が困難となってきている。そこで本研究では、金属添加物がガラスの加工形状に与える影響を調べたので報告する。