The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.4 Plasma etching

[19p-W621-1~12] 8.4 Plasma etching

Sat. Mar 19, 2016 2:30 PM - 5:45 PM W621 (W6)

Hisataka Hayashi(TOSHIBA), Koji Eriguchi(Kyoto Univ.)

4:30 PM - 4:45 PM

[19p-W621-8] Evaluation of plasma resistance of YOF ceramics

Toru Tsunoura1, Katsumi Yoshida1, Toyohiko Yano1 (1.Tokyo Tech.)

Keywords:YOF,Plasma irradiation,Corrosion resistant materials

YOFセラミックスは、半導体製造装置向けの耐プラズマ材料として、構造材料およびコーティング材料への適用が期待されている。本研究では、YOFの緻密なバルク体を作製し、フッ素系プラズマ照射を行った。その結果、従来材料であるイットリアと比較して、YOFセラミックスは優れた耐食性を示した。