[20a-S224-1~9] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-S224-6] ビルトインレンズマスクリソグラフィによる高段差ステップ上への露光

〇田中 利樹¹、笹子 勝¹、菊田 久雄¹、川田 博昭¹、平井 義彦¹ (1.大阪府立大)

キーワード：フォトリソグラフィ、フォトマスク、三次元