[20a-S224-1~9] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

△ [20a-S224-8] Exposure Characteristics of New Modacrylic Electron Beam Polymer Resist (Ⅱ)

〇Shunsuke Ochiai¹, Tomohiro Takayama¹, Yukiko Kishimura¹, Hironori Asada¹, Masashi Kunitake², Ryoichi Hoshino³, Atushi Kawata³ (1.Yamaguchi Univ., 2.Kumamoto Univ., 3.LLC Gluon Lab.)

Keywords:resist

我々は、レジストにおける高分子の化学構造組成のデザインの役割を探ることを目的として、αクロロアクリル酸メチル(ACM)とメタクリル酸ベンジル(BzMA)を共重合したレジストを評価している。前回、ACMとBzMAの組成比50 : 50 (分子量 : 42,000 )のポリマー(レジストA)を合成し評価したところ、従来組成のαクロロアクリル酸メチルとαメチルスチレンの共重合体と比べ、エステル系現像液に対しての溶解性が高いことを報告した。しかしながら、酢酸アミルを現像液としたパターン形成においてはスカムの発生により良好なパターン形状が得られなかった。そこで今回は、組成比を変えたポリマーを合成し、露光特性の評価を行った。