The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /MEMS/Integration technology

[20a-S423-1~9] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /MEMS/Integration technology

Sun. Mar 20, 2016 9:00 AM - 12:15 PM S423 (S4)

Minoru Sasaki(Toyota Tech. Inst.)

11:45 AM - 12:00 PM

[20a-S423-8] Integration of MEMS tunable monocrystalline silicon grating with LSI circuit

Takashi Sasaki1, Tomohiro Suzuki1, Hiroshi Matsuura2, Kazuhiro Hane1 (1.Tohoku Univ., 2.Tohoku Gakuin Univ.)

Keywords:MEMS,LSI,Tunable grating

MEMS型の空間光変調器は偏光依存性が無く応答が高速であるため注目されている。空間光変調器の画素数は多いほうが好ましいため、LSI上へのMEMS型空間光変調器の集積の研究開発が進められている。しかし、報告は非常に少なく、製作プロセスの開発やデバイスの特性評価が十分でない。可変単結晶シリコン回折格子のLSI回路上への集積プロセスの開発と評価を行ったので報告する。